日前消息指美国芯片企业美光已引入日本的纳米压印技术--NIL技术，这对于ASML无疑是一大重击，ASML此前连连遵从美国的要求，却换来美国芯片的一再背叛。

这几年ASML对美国可谓言听计从，2018年中国一家芯片企业预支了货款订购EUV光刻机，却由于美国的阻挠一直没有交货，从那之后EUV光刻机就再也没有卖给任何一家中国芯片企业。

不过由于中国市场的庞大需求--中国加速推进芯片制造的发展，2021年和2022年Q1中国市场仍然为ASML贡献了三分之一的收入，超过了韩国和中国台湾等市场，成为ASML的最大市场。

2022年下半年，美国进一步阻止ASML对中国出售光刻机，可用于7纳米的2000i光刻机也被限制对中国出售，ASML照做，由此导致中国市场贡献的收入占比大跌至10%左右，如此境况一直保持到2023年Q3。

2023年9月ASML突然获得许可，可对中国出售用于7纳米的2000i光刻机，仅是9月份中国采购的光刻机就增加了18倍之多，随后几个月都是倍速增长，最终2023年中国市场为ASML贡献了600亿元的收入，占ASML的收入比例高达46%，由此可以看出中国市场的重要性。

2024年ASML又被取消了许可，ASML只能无奈接受，可以说一直以来基本上都是美国说啥，ASML就跟着照做，然而如此顺从的结果却是美国芯片行业总是背叛ASML。

美光早已研发了绕开EUV光刻机的1β工艺；2023年日本佳能研发成功5纳米NIL工艺，也无需EUV光刻机，当时全球仅有日本芯片企业采用了NIL工艺，限制了日本NIL工艺的发展，但是近期有消息指美光已采用了日本的NIL工艺，这是日本的先进芯片制造工艺再次走出日本市场。

日本光刻机和ASML的纠葛颇深，这么多年下来，全球光刻机市场基本由日本的佳能、尼康和ASML竞争，在2005年之前全球光刻机市场由佳能和尼康占有八成市场，那时候的ASML在飞利浦的照顾下挣扎求生。

台积电的前技术负责人林本坚研发成功了浸润式光刻机技术，日本光刻机行业看不上而继续坚持发展干式光刻机，ASML却认为是机会而找上台积电，由此ASML咸鱼翻生，至2008年ASML已占有光刻机市场六成市场份额，日本光刻机产业开始败落。

此后美国拉拢多家企业研发EUV光刻机技术，研发成功之后将之交给ASML，目的是为了进一步打压日本的光刻机产业，由此在7纳米以下的光刻机市场全数由ASML占领，进一步成就了ASML的辉煌。

如此就可以看出，如今美国芯片再次支持日本的NIL技术，让ASML有多担忧了。更何况ASML研发成功2纳米EUV光刻机之后，最多三年2纳米EUV光刻机就可满足台积电、Intel和三星三大客户的需求，如果无法对中国出售，第一代EUV光刻机和2纳米EUV光刻机都将没有客户。第一代EUV光刻机在满足台积电、Intel和三星之后，如今就已面临缺乏客户的问题。

ASML眼见着美国态度的变化，它也在寻找新的支持，据悉它已计划搬离荷兰，有可能迁往法国，原因是欧洲三大强国分别是英国、法国和德国，ASML希望获得法国的支持，从而为争取中国市场获得支持。

事实证明了中国市场对ASML来说无比重要，也是ASML光刻机事业的最后红利，它认为光刻机行业基本上在2纳米EUV光刻机之后已没有可能研发更先进的光刻机了，如果能对中国市场出售EUV光刻机就能赚取最后一笔利润，否则只会更早进入下坡路。