芯片设备市场发生重大变化，日本的5纳米压印光刻机已可向客户交付，进展神速，远超预期，这下子ASML的压力就大了，它的EUV光刻机可能因此被淘汰而成废铁了。

据佳能的高管表示它家的5纳米压印光刻机价格低廉，只有ASML第一代EUV光刻机的一成，而且耗电量也只有EUV光刻机的一成，这意味着5纳米工艺的制造成本可望大幅下降。

光刻机是芯片设备当中最贵的一种设备，ASML的第一代EUV光刻机售价高达1.2亿美元，第二代EUV光刻机则高达4亿美元，昂贵的EUV光刻机导致全球的需求量相当有限，ASML预计未来的EUV光刻机产能也不过90台，而DUV光刻机产能则高达600台。

芯片制造的另一项成本则是电费，全球最大的芯片制造企业台积电的耗电量非常惊人，据分析指出台积电的耗电量占中国台湾的12.5%，并且EUV光刻机的耗电量更是数倍于DUV光刻机，去年由于芯片产能需求下滑，台积电为了节省电费就关闭了好几台EUV光刻机。

佳能的纳米压印光刻机则可以大幅度降低芯片制造的设备和电力成本，这符合当下全球芯片制造行业都在寻求降低芯片制造成本的趋势，可望快速替代ASML的EUV光刻机，对ASML无疑将是重大打击。

事实上ASML的光刻机从去年开始就出现需求下滑了，原因台积电、三星、Intel三大客户都暂停了采购，台积电现有的光刻机都关闭了，三星去年底采购的10台EUV光刻机在仓库蒙尘，Intel放缓了Intel 4G工厂的量产进程。

如今佳能更低成本的纳米压印光刻机抢占市场，为了降成本，诸多芯片企业必然都会抢购，放弃ASML的光刻机，如此情况下ASML的光刻机将只能变成废铁，而不会再有人买。

不过ASML还有一个机会，那就是中国市场，由于日本无法对中国出售45纳米以下的设备和材料，而ASML目前还可以对中国出售用于7纳米的2000i光刻机，如此情况下中国市场将变得比任何时候都要重要。

今年三季度也显示中国市场已成为ASML的最大市场，ASML公布的业绩显示三季度中国市场为它贡献了46%的收入，远超中国台湾、韩国和美国市场，而且也正是因为从中国市场获得的收入倍速增长才稳定了ASML的业绩，如今中国市场对ASML必然会更加重要。

ASML也正是认识到中国市场太重要，在中国一家手机企业推出5G芯片之后，迅速获取许可对中国出售更先进的2000i光刻机，日前ASML高管再次强调会继续加强与中国的合作，希望对中国销售更多光刻机。