22日讯，荷兰光刻机设备生产商阿斯麦（ASML）此前公布了 2021 年第二季度财报。此外，ASML方面表示，EUV (极紫外光) 光刻业务: 第一台NXE:3600D已出货给客户。相较于前一代产品，NXE:3600D的生产力提高15%到20%，且套刻精度(overlay)也提高 30%。ASML正增加EUV在存储产业的量产应用，并将计划协助三个 DRAM 客户实现在未来的制程节点中导入EUV。

ASML 正努力增加 EUV 在存储产业的量产应用，并将计划协助三个 DRAM 客户实现在未来的制程节点中导入 EUV。在其 DUV 业务中，TWINSCAN NXT:2000i（一种 ArFi 浸入式系统）创下了单日在客户处曝光 6,300 多片晶圆的记录。